垂直字线选通器及其制备方法、三维芯片及其制备方法

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垂直字线选通器及其制备方法、三维芯片及其制备方法
申请号:CN202510644355
申请日期:2025-05-19
公开号:CN120583680A
公开日期:2025-09-02
类型:发明专利
摘要
本申请提供了一种垂直字线选通器及其制备方法、三维芯片及其制备方法,涉及半导体技术领域。垂直字线选通器的第一绝缘介质层设置有贯穿的多个通孔,一个晶体管位于一个通孔内,晶体管的栅极的至少部分位于通孔内,沟道层的至少部分位于栅极与通孔的侧壁之间,以及位于栅极与衬底之间,沟道层位于栅极与通孔的侧壁之间的部分可视作晶体管的源极,位于栅极与衬底之间的部分可视作晶体管的漏极。第一导电互连层与晶体管的源极电连接,晶体管的漏极可用于与垂直字线电连接,从而控制一个晶体管的选通可实现对一个垂直字线串的选通,可避免存储芯片的多个垂直字线分别单独引出,有利于更大规模和更高密度的垂直字线串的集成。
技术关键词
导电互连层 晶体管 栅极 衬底 存储芯片 绝缘 通孔 介质 沟道材料层 阵列 高密度 凹槽
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