等离子体处理设备及离子过滤调节方法

本公开涉及等离子体处理技术领域，提供等离子体处理设备及离子过滤调节方法，设备包括：等离子体发生腔；反应腔内设有载台；离子过滤件覆设于等离子体出口，电性连接于可调直流电压源并与所述等离子体发生腔之间保持绝缘；离子探测件环绕载台外周侧面中心对称地设置；离子探测件具有离子探测面；其中，离子探测件与电荷分析器连接，以基于所接收离子形成电流信号；控制单元，按照当前工艺情况，设置所述离子吸附电压的极性以吸附相反极性的离子，且根据所述电流值调节离子吸附电压的电压值大小。由此，实现根据工艺情况所来对应调节离子过滤件的离子过滤能力，以灵活满足多样化工艺需求，比如通过增加离子过滤能力来避免离子轰击导致的表面受损。