基于非周期相位分布的液晶光学相控阵栅瓣抑制方法

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基于非周期相位分布的液晶光学相控阵栅瓣抑制方法
申请号:CN202510664992
申请日期:2025-05-22
公开号:CN120539973A
公开日期:2025-08-26
类型:发明专利
摘要
基于非周期相位分布的液晶光学相控阵栅瓣抑制方法,属于液晶光学相控阵技术领域,解决液晶光学相控阵的液晶阵列物理尺寸无法改变,而导致的无法灵活的根据实际施加的相位抑制栅瓣强度的问题;该方法通过在周期相位分布的液晶光学相控阵中引入非周期型相位项,优化子阵内和子阵间的相位分布,具体步骤为:首先建立子阵的非周期相位分布远场光场模型,通过施加相邻子阵间的相位差叠加得到整体模型,并采用遗传算法对模型参数进行迭代优化,最终实现栅瓣抑制;本发明通过软件调控相位分布,无需改变硬件结构,具有灵活可调、主瓣能量利用率高、加工难度低等优点,显著提升了光束扫描性能和远场成像对比度。
技术关键词
液晶光学相控阵 栅瓣抑制方法 远场光场 周期 遗传算法 液晶单元 参数 灵活可调 处理器 存储器 光波长 光束 对比度 电子设备 程序 成像 因子 软件 阵列
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