一种单级衍射光栅结构及其制备方法

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正文
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一种单级衍射光栅结构及其制备方法
申请号:CN202510666151
申请日期:2025-05-22
公开号:CN120468984A
公开日期:2025-08-12
类型:发明专利
摘要
本发明提供了一种单级衍射光栅结构及其制备方法,该制备方法包括:提供一个基板;基于深度学习算法的卷积神经网络确定周期排列的六边形孔结构的参数;在所述基板的表面制备周期排列的多个六边形孔结构,以形成单级衍射光栅结构,使所述单级衍射光栅结构具备正弦衍射光栅的衍射特性。本发明的单级衍射光栅结构制备方法,能够与传统半导体工艺兼容,制造工艺简单,利用由周期的六边形孔结构组成的光栅单元结构的刻蚀实现正弦衍射光栅的衍射特性,使制备出的单级衍射光栅结构具有抑制高级衍射的特性,得到清晰的正负一级衍射图像,减少读数误差,可以更好地分析光谱特性。
技术关键词
单级衍射光栅 孔结构 深度学习算法 半导体工艺兼容 版图 石英基板 激光直写光刻 周期 光刻胶层 长方形 神经网络架构 三角形 深度学习模型 六边形结构 参数 读数误差
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