光刻工艺窗口确定方法

本申请涉及一种光刻工艺窗口确定方法，方法包括：获取聚焦曝光矩阵，聚焦曝光矩阵包括多种光刻工艺配方对应的测试图像；分别对每个测试图像中所有像素点的像素值进行聚类分析，确定每个测试图像中的第一目标区域；根据每个测试图像中的第一目标区域，分别对每个测试图像进行特征统计，得到每个测试图像的特征数据；根据每个测试图像的特征数据以及每个测试图像的光刻工艺配方，确定光刻工艺窗口。通过聚类分析和特征统计，得到各个所述测试图像的特征数据，最终根据每个所述测试图像的特征数据以及每个所述测试图像的光刻工艺配方，准确且高效地确定了光刻工艺窗口。