金属格栅及其形成方法和背照式图像传感器芯片

本发明公开了一种金属格栅及其形成方法，旨在解决光学串扰问题。该金属格栅包括形成外层结构的介质层，以及被其至少在侧壁包覆并填充内部的金属层。其形成方法包括：在衬底上形成掩模层并在其中形成沟槽；在沟槽内壁沉积介质层；沉积金属层填充沟槽剩余空间并覆盖周边区域形成叠层结构；最后去除沟槽外部的叠层结构部分及掩模层部分，以限定金属格栅。本发明通过形成的金属格栅能有效降低光学串扰，提高成像质量和量子效率。