基于顶面HR层和平面金属光栅的激光器及制备方法

本发明涉及光电子器件技术领域，尤其是基于顶面HR层和平面金属光栅的激光器及制备方法，包括：增益芯片、光波导、平面金属光栅以及覆盖层，本发明采用电子蒸发镀工艺制备的平面金属光栅替代传统复杂的立体刻蚀极大地提升了光栅结构的可控精度和平整度，摒弃InP二次外延工艺，简化了整体工艺流程，降低了生产成本，同时提高了产品性能一致性和产品良率，显著提高了反射滤光效率，保障了布拉格反射光谱的纯度，有助于实现激光器的窄线宽性能，在平面金属光栅上方覆盖覆盖层，有效解决了半导体二次外延晶格不匹配问题，还能约束衍射光，减少光能外溢外腔结构设计增加了自由度。