基于SOI的低零漂压力芯片高效制备方法及系统

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基于SOI的低零漂压力芯片高效制备方法及系统
申请号:CN202510736419
申请日期:2025-06-04
公开号:CN120257748B
公开日期:2025-08-15
类型:发明专利
摘要
本发明涉及芯片制备技术领域,揭露了一种基于SOI的低零漂压力芯片高效制备方法及系统,包括:分析现有制备材料对应的材料性能参数,从预设材料库中筛选出现有制备材料对应的协同制备材料;对压力芯片进行有限元仿真处理,得到压力芯片仿真模型,计算压力芯片仿真模型对应的结构挠曲度;配置压力芯片的模拟环境条件,计算压力芯片仿真模型对应的零点漂移离散度;计算出压力芯片仿真模型对应的芯片温漂系数;从协同制备材料和现有制备材料中确定压力芯片对应的高效制备材料,对芯片制备路径进行参数优化,得到低零漂制备路径,执行对压力芯片的制备处理,得到芯片成品。本发明可以提高SOI的低零漂压力芯片的制备效率。
技术关键词
仿真模型 材料性能参数 芯片 压力 模拟环境条件 温漂 电学性能参数 方程 材料微观结构 材料泊松比 膜片 曲线 刚度 弯曲 载荷 尺寸 成分分析 成品
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