基于光谱的光学材料缺陷深度检测方法

本发明公开了基于光谱的光学材料缺陷深度检测方法，属于缺陷检测技术领域，包括以下步骤：获取待检测光学材料的高光谱图像特征参数，基于高光谱图像特征参数确定是否存在缺陷；若不存在缺陷，则检测结束；若存在缺陷，则确定初步缺陷区域以及缺陷类型；获取初步缺陷区域的拉曼光谱特征参数，并基于拉曼光谱特征参数确定最终缺陷区域；在最终缺陷区域进行太赫兹光谱深度扫描，得到太赫兹光谱特征参数，并构建缺陷深度信息图谱；基于高光谱图像特征参数、拉曼光谱特征参数和太赫兹光谱特征参数进行缺陷深度反演，得到缺陷深度预测结果。本发明解决了传统方法难以准确检测光学材料内部缺陷深度的问题，具有高精度、全面性和适应性。