基于光场散射与自相关的远场超分辨成像方法与装置

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正文
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基于光场散射与自相关的远场超分辨成像方法与装置
申请号:CN202510747663
申请日期:2025-06-05
公开号:CN120629071A
公开日期:2025-09-12
类型:发明专利
摘要
本发明提供了一种基于光场散射与自相关的远场超分辨成像方法与装置。成像装置包括激光器、相位调制器、散射片、成像透镜、电荷耦合器件CCD和计算机。激光器发出的光束均匀照射于相位调制器,产生时变的散斑场辐照于待测物体上,经待测物体透过的光场信息自由传播至散射片,散射的光场由透镜成像于CCD上,CCD记录散射光场的空间强度分布信息并储存于计算机中。激光器、相位调制器和CCD由一个同步信号发生器同步触发控制进行工作,散射片平面、透镜平面和CCD平面满足成像关系。通过对CCD记录的空间强度分布信息进行关联运算,得到待测物体的傅里叶变换图谱信息,再对图谱信息进行相位恢复重建,获取待测物体的实空间图像信息。
技术关键词
电荷耦合器件 相位调制器 待测物体 同步信号发生器 成像装置 激光器 单透镜成像系统 远场超分辨成像 成像方法 空间图像信息 相位恢复算法 散射光 图像重建 放大率 光强 计算机 分辨率
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