一种双波段消偏振分光膜及其制备方法

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一种双波段消偏振分光膜及其制备方法
申请号:CN202510754574
申请日期:2025-06-06
公开号:CN120428444A
公开日期:2025-08-05
类型:发明专利
摘要
本发明涉及光学薄膜技术领域,具体为一种双波段消偏振分光膜,基础膜系结构表示为:Sub|(LH)k·(α1H·β1L·α2H·β2L·…·αkH·βkL)·L·H|Air其中:Sub为基底;H和L分别代表高折射率材料和低折射率材料的λ/4光学厚度薄膜层;α1~αk为高折射率材料薄膜层的倍数;β1~βk为低折射率材料薄膜层的倍数;k为周期数。本发明通过选定中心波长与入射角→设置优化目标→软件优化的标准化流程即可完成设计,减少设计变量复杂度,仅需两种材料组合,降低材料匹配难度,相比传统采用多种材料制备消偏振分光膜的方法,降低了设计和制备的复杂性,提高了制备的可行性。
技术关键词
消偏振分光膜 高折射率材料 双波段 数值优化算法 高折射率层 低折射率层 膜系结构 电子束蒸发技术 真空室组件 光学薄膜技术 基底 厚度监控 薄膜层 偏振光 周期 波长 镀膜设备
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