具有渐变折射率微透镜的Micro-LED芯片及其旋转刻蚀方法和装置

本发明公开了一种具有渐变折射率微透镜的Micro‑LED芯片及其旋转刻蚀方法和装置，其Micro‑LED芯片包括由下至上依次布置的Micro‑LED阵列单元和微透镜阵列单元，所述Micro‑LED阵列单元包括衬底和若干呈阵列排布在该衬底上的Micro‑LED像素，所述微透镜阵列单元包括设在Micro‑LED像素上的透明基底和若干布置在该透明基底上的微透镜，所述微透镜与各Micro‑LED像素一对一布置，其特征在于：所述微透镜为上表面向上凸出布置的平凸透镜，所述微透镜由至少两层由下至上依次平行布置的透明薄膜组成，所述透明基底和各透明薄膜的折射率由下至上依次降低，所述透明基底的折射率小于Micro‑LED像素的折射率。本发明避免了发生全反射带来的光损失，提高了Micro‑LED出光的EQE，不需要重新设计特定的掩模，降低了加工成本。