光刻控制方法、控制装置、光刻系统及存储介质、电子设备

一种光刻控制方法、控制装置、光刻系统及存储介质、电子设备。所述方法包括：利用第一机器学习模型，确定初始光刻参数，并发送至光刻设备，以控制所述光刻设备按照所述初始光刻参数执行当前光刻操作；监测所述光刻设备在执行当前光刻操作过程中光刻过程数据，并基于监测到的光刻过程数据进行光刻精度分析；在当前光刻操作的光刻精度不满足预设光刻精度要求时，调整所述初始光刻参数或所述光刻设备，以控制所述光刻设备的下一光刻操作。采用上述方案，可以有效提高光刻工艺精度。