一种复杂光场干扰环境下的精密金属件表面缺陷成像方法及系统

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一种复杂光场干扰环境下的精密金属件表面缺陷成像方法及系统
申请号:CN202510770968
申请日期:2025-06-10
公开号:CN120707450B
公开日期:2025-11-25
类型:发明专利
摘要
本申请提供一种复杂光场干扰环境下的精密金属件表面缺陷成像方法及系统。获取金属件表面的原始多光谱图像序列;基于原始多光谱图像序列,生成标准化图像集;通过自适应核函数对标准化图像集中单帧图像进行背景分离,提取图像的低频分量作为引导平滑图像;将引导平滑图像与对应标准化图像集的单帧图像进行像素级差分运算,生成包含缺陷边缘信息的高频缺陷特征图;基于正态分布模型对特征图的灰度分布进行概率密度函数映射,生成具有增强梯度特征的缺陷特征分布图;将缺陷特征分布图与原始多光谱图像进行多尺度特征融合,构建缺陷增强图像集;本申请在复杂光照条件下提升了金属件表面微小缺陷的成像可见度与检测精度。
技术关键词
金属件表面 概率密度函数 多光谱 图像 缺陷成像方法 正态分布模型 多尺度特征融合 拉普拉斯金字塔 融合特征 高斯金字塔 参数 非线性 对比度 缺陷成像系统 Lab色彩空间 序列 重构算法 存储组件 通道
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