薄膜沉积设备的调度方法、装置、设备及存储介质

本发明涉及半导体技术领域，尤其涉及薄膜沉积设备的调度方法、装置、设备及存储介质，方法包括：基于设备信息和假设虚拟条件获取各个工艺模块的清洁时间信息；基于加工信息和各个清洁时间信息获取各个工艺模块的空转时间；基于设备信息和加工信息构建ROPN模型，并基于各个工艺模块的空转时间优化ROPN模型；基于优化后的ROPN模型指导薄膜沉积设备的调度；本申请公开的方法，通过计算各工艺模块的空转时间以优化ROPN模型，实现了各个工艺模块清洁时间的错峰安排，有效避免了真空端机械手负载的不均衡现象，显著提升了薄膜沉积设备的生产效率；且基于ROPN模型的周期性调度策略，可确保各个工艺模块的清洁时间持续错峰。