一种QFN芯片结构及其制备方法

AITNT
正文
推荐专利
一种QFN芯片结构及其制备方法
申请号:CN202510808245
申请日期:2025-06-17
公开号:CN120637244A
公开日期:2025-09-12
类型:发明专利
摘要
本发明提供了一种QFN芯片结构及其制备方法,方法包括在金属片正面电镀金属材料形成第一基岛和打线手指,在第一基岛表面贴装第一芯片,第一芯片与打线手指通过引线电性连接;对金属片正面塑封形成第一塑封部;在金属片背面半蚀刻形成至少一圈的金属柱和第二基岛,各金属柱之间断开且金属柱底部保留台阶,在台阶表面电镀形成焊线手指,第二基岛表面电镀金属层,进而贴装第二芯片,第二芯片和焊线手指电性连接;对金属片背面塑封形成第二塑封部但是金属柱顶部表面裸露,裸露的金属柱表面用于与外部线路连接。本发明公开的QFN芯片结构不仅可实现双面芯片集成,还可避免底部输出脚凹陷的问题,从而提高封装的可靠性和焊接性能。
技术关键词
金属片 表面电镀金属层 QFN芯片 芯片结构 电镀金属材料 焊线 正面 台阶 蚀刻 引线 线路 长方形 铜片 双面 凹槽
系统为您推荐了相关专利信息
1
基于金属芯复合基板的嵌入式双面直接冷却功率模块结构
复合基板 功率模块结构 功率芯片 金属片 凸台结构
2
一种IGBT芯片结构及制作方法
IGBT芯片结构 掩膜结构 正性光致抗蚀剂 金属铝 集电极层
3
一种防溢出水壶
电容式液位检测 电荷收集器 开漏输出电路 水壶 加热模块
4
基于微流控-CFD-DEM的蜡晶絮凝体内聚力及微观力学参数测量方法
力学参数测量方法 絮凝 微流控通道 高分辨率显微成像系统 偏光显微镜
5
一种功率MOSFET器件的热阻仿真模型构建方法
功率MOSFET器件 仿真模型 热阻 芯片结构 PN结器件
添加客服微信openai178,进AITNT官方交流群
驱动智慧未来:提供一站式AI转型解决方案
沪ICP备2023015588号