摘要
本发明涉及LED芯片技术领域,具体为一种LED集成芯片的制备方法及显示器件的制备方法,其中,LED集成芯片制备过程中,首先将外延层划分为发光区、电极区,再对外延层进行刻蚀,在发光区形成若干阵列分布的发光体,再在电极区制备连接层、N电极,N电极通过连接层与第一N型GaN层电连接,形成共阴极结构,由此获得的LED集成芯片中,N电极位于发光区以外的电极区中,未占用发光体空间,有利于发光体尺寸的进一步缩小。将上述LED集成芯片应用于显示器件中,通过键合结构将LED集成芯片与驱动单元倒装互连,获得一电学性能稳定的显示器件。
技术关键词
LED集成芯片
P型GaN层
发光体
电极
种子层
光刻胶
磁控溅射镀膜工艺
焊盘
电镀金属材料
光刻刻蚀工艺
电镀工艺
键合结构
外延
半导体工艺
阴极结构
LED芯片技术
负极
驱动单元
显示器
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