摘要
本发明涉及磁流变抛光技术领域,尤其涉及一种基于电磁流量计感知的磁流变抛光系统及其抛光方法,通过电磁流量计监测抛光过程中磁流变液流量的变化,通过控制液体泵转速并通过控制作动器组输出位移、液体泵高度、喷嘴位置、抛光轮转速实现磁流变液流量波动的粗精两级调节,使得每个抛光点的磁流变液流量波动符合高精度抛光要求,保证抛光过程中去除函数的恒定。本发明无需额外的随动装置,设备成本更低,流量变化小,磁流变液流量波动更加平稳。
技术关键词
抛光元件
液体泵
磁流变液
电磁流量计
抛光平台
抛光方法
抛光系统
驱动工业机器人
理论
关系
磁流变抛光
抛光轮驱动装置
坐标系
计算机
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二次抛光
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