高散热QFN堆叠结构及其制备方法

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高散热QFN堆叠结构及其制备方法
申请号:CN202510965532
申请日期:2025-07-14
公开号:CN120497143A
公开日期:2025-08-15
类型:发明专利
摘要
本发明公开了一种高散热QFN堆叠结构及其制备方法,QFN堆叠结构包括第一框架、第二框架和塑封部,第一框架正面形成第一基岛、多个第一引脚和导电金属柱,在第一基岛表面贴装第一芯片,第一芯片与第一引脚电性连接,第二框架正面形成第二基岛和第二引脚,在第二基岛表面竖直方向堆叠第二芯片和第三芯片,第二芯片、第三芯片与第二引脚电性连接,第一框架正面朝下堆叠在第二框架正面,使导电金属柱对应连接第二引脚,实现多芯片的电性连接;塑封部包覆导电金属柱、第一芯片、第二芯片和第三芯片。本发明的QFN堆叠结构包含双层框架结构的多芯片QFN封装体,实现了多芯片的高密度集成封装,提高了封装结构的可靠性,还提高了散热效果。
技术关键词
堆叠结构 结合体 导电 电信号传输功能 高密度集成封装 QFN封装体 正面 高散热 双层框架结构 芯片堆叠 蚀刻工艺 多芯片 封装结构 焊线
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