摘要
本发明公开了一种十层电路板生产工艺,包括以下步骤:(1)、发料;(2)、内层制作;(3)、压合;(4)、第一钻孔;(5)、除胶工艺:第一步:超临界CO2除胶;第二步:等离子除胶强化,采用O2/CF4混合气体,射频功率1500W;(6)、一次PTH/电镀:化学沉铜前进行超声波微蚀,频率40kHz;电镀液添加聚二硫二丙烷磺酸钠与聚乙烯亚胺;(7)、第一树塞/研磨;(8)、微蚀减铜;(9)、第二钻孔‑盲孔;(10)、二次除胶+PTH/电镀:盲孔除胶增加真空辅助渗透工艺;(11)、外层干膜;(12)、外层蚀刻/AOI:AOI系统集成AI缺陷识别算法,铜瘤检测灵敏度10μm;(13)、防焊;(14)、文字;(15)、化金;(16)、捞型;(17)、V‑cut;(18)、电测;(19)、AVI;(20)、包装。铜瘤发生率低于0.3%,通孔电阻合格率大于99.5%。
技术关键词
真空辅助
电路板
填充纳米二氧化硅
金刚石涂层
识别算法
聚四氟乙烯微粒
纳米二氧化硅改性
卷积神经网络模型
实时监测系统
丙烷磺酸钠
钻孔
电镀液
蚀刻
化金
聚乙烯
真空烘烤
超临界
显微镜
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