一种光纤陀螺中双层磁屏蔽结构之间距离优化方法

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一种光纤陀螺中双层磁屏蔽结构之间距离优化方法
申请号:CN202511042910
申请日期:2025-07-28
公开号:CN120991819A
公开日期:2025-11-21
类型:发明专利
摘要
本发明公开了一种光纤陀螺中双层磁屏蔽结构之间距离优化方法,解决了现有双层磁屏蔽光纤陀螺无法精准确定双层磁屏蔽之间间隙,要么导致浪费材料,同时会增大了光纤陀螺的重量,要么导致抗磁干扰能力较差,使光纤陀螺精度降低的技术问题,包括以下步骤:步骤1搭建三维模型;步骤2将三维模型分别置于径向和轴向磁场中进行有限元仿真,得到光纤环分别在径向磁场和轴向磁场中的磁场强度平均值;步骤3计算得到在径向和轴向磁场中光纤陀螺的最大输出误差;步骤4光纤陀螺的最大输出误差是否满足技术指标;步骤5输出双层屏蔽结构的间距。
技术关键词
磁屏蔽结构 光纤环组件 轴向磁场 有限元仿真软件 三维模型 线性磁导率 磁屏蔽光纤陀螺 误差 双层屏蔽结构 衬板 磁场环境 非线性 间距 螺钉 波长 基座
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