摘要
本发明属于LED芯片技术领域,具体涉及一种低粗糙度n型电极LED芯片制备方法,将AlGaN紫外LED芯片的常规第一n型接触电极作为牺牲电极,在第一n型接触电极高温退火合金化形成n型欧姆接触,此时外延片势垒已形成,采用湿法腐蚀的方法去掉第一n型接触电极,然后蒸镀功函数适宜的第二n型电极,同时起到加厚电极、电流扩展的作用,可获得优良的第二n型电极外观和电压。本发明可有效解决第一n型接触电极高温退火合金化后的粗糙引起的外观不良、良率损失和可靠性问题。
技术关键词
接触电极
粗糙度
AlN缓冲层
量子阱层
p型半导体层
光刻胶
刻蚀液
LED芯片技术
紫外LED芯片
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