一种基于Transformer模型的光刻机掩膜版对准方法

本发明公开了一种基于Transformer模型的光刻机掩膜版对准方法，涉及光刻机技术领域，用于解决当前光刻机掩膜版对准精度不准确问题；该方法首先通过采集掩膜版与晶圆组合的图像数据，并对图像进行噪声去除和归一化处理。接着，通过区域划分、物理特性分析和多因子融合算法计算各子区域的动态系数，将提取的特征数据与动态系数序列化后输入Transformer模型，进行自注意力机制处理，输出掩膜版与晶圆的对准偏差预测值。最后，根据偏差预测值，采用自适应步进电机控制策略动态调整掩膜版位置和角度，精确补偿平移与旋转误差。该方法能够实时、精准地调整光刻机掩膜版位置，提高光刻精度和生产效率。