光学临近修正方法、装置、电子设备及介质

本申请提供一种光学临近修正方法、装置、电子设备及介质，涉及半导体技术领域。该方法包括：获取设计版图；以设计版图中任一通孔图形为目标通孔图形，确定距离目标通孔图形最近的邻近图形；确定目标通孔图形的第一目标边和邻近图形的第二目标边；根据第一目标边和第二目标边的边位置关系，从多个补偿表中确定目标补偿表；每个补偿表包括：不同距离与不同补偿值的对应关系；多个补偿表中相同距离对应的补偿值不同；根据第一目标边和第二目标边之间的距离，从目标补偿表中确定目标补偿值；将第一目标边向第二目标边的方向移动目标补偿值的距离，得到目标通孔图形的显影后目标图形。本申请可以为图形提供平滑的补偿值，确保芯片性能。