摘要
本发明涉及紫外LED制造技术领域,尤其涉及一种晶面调控型宽光谱深紫外LED芯片及其制备方法。包括:图形化衬底为具有凸起或凹陷的三维立体结构,凸起或凹陷的最高点或最低点与衬底表面的高度差范围为0~10微米;凸起或凹陷由倾斜平面区域组成,倾斜平面区域与衬底表面夹角角度为0~15度;外延结构依次为n型AlGaN层、AlGaN多量子阱结构层、p型AlGaN层;p型欧姆接触复合金属层设置在p型AlGaN层上;n型AlGaN层一侧部分暴露,设置n型欧姆接触复合金属层。优点在于:利用倾斜角对AlGaN组分的调控,在不同区域上形成多组分,实现单片上多光谱集成,稳定性高;发光波段覆盖波长范围大于20 nm。
技术关键词
深紫外LED芯片
图形化衬底
p型AlGaN层
晶面
三维立体结构
激光直写光刻设备
外延结构
光刻胶层
HVPE设备
n型掺杂剂
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