一种同位素敷贴防外溢给药的分布控制方法

本发明属于医疗自动化设备技术领域，公开一种同位素敷贴防外溢给药的分布控制方法，包括以下步骤：获取待给药的同位素敷贴载药层的图像数据；基于图像数据，提取载药层的轮廓线，并确轮廓线的最小外接矩形；根据最小外接矩形的长宽比对外接矩形进行规范化分割，形成多个初级区域；对每个初级区域进行递归细分操作，每次划分将当前区域分割为若子区域，直至满足预设的划分停止条件；筛选最终获得的子区域，保留包含有效区域的子区域作为给药子区；对各给药子区进行边界腐蚀处理，并通过二分搜索各给药子区的最优腐蚀直径；通过迭代优化腐蚀直径，显著提升了最优腐蚀直径搜索的计算效率，并降低了放射性药液外溢风险。