一种光刻机物镜的焦点寻找方法、装置、设备及介质

本发明公开了一种光刻机物镜的焦点寻找方法、装置、设备及介质。该方法包括：控制晶圆在光刻机物镜的光轴方向上进行位移，并在每次位移后记录晶圆位移量并对所述晶圆进行曝光；统计所述晶圆上因曝光而形成的互相存在一定间隔的各曝光图案的线宽测量值和晶圆光轴位移量；根据晶圆光轴位移量不同且线宽设定值相同的晶圆上至少三个曝光图案的线宽测量值和晶圆光轴位移量拟合有效二次抛物线方程；二次抛物线方程的自变量为晶圆光轴位移量，因变量为线宽测量值；根据所述有效二次抛物线方程寻找光刻机物镜焦点所在平面的水平高度。本发明实施例可以准确地找到光刻机物镜焦点所在平面的水平高度。