工艺参数优化方法、系统、原位在线检测装置、计算机设备及存储介质

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工艺参数优化方法、系统、原位在线检测装置、计算机设备及存储介质
申请号:CN202511374058
申请日期:2025-09-25
公开号:CN120874622B
公开日期:2025-12-02
类型:发明专利
摘要
本申请提供了一种工艺参数优化方法、系统、原位在线检测装置、计算机设备及存储介质,本申请获取工艺参数和预设窗口内的测量数据;基于测量数据,提取表征晶圆表面生长物理状态的特征参数;将特征参数和工艺参数输入预训练的预测模型中,得到表征生长状态趋势和光电特性变化趋势预测结果;基于预测结果优化工艺参数,优化后的工艺参数用于晶圆在下一预设窗口的外延生长工艺过程。采用上述方案,本申请从原始的测量数据中提取表征生长物理状态的特征参数,基于该特征参数,本申请无需依赖于先验模型和参数,自动解析多参数之间的高维度关系、找到全局最优的工艺窗口,生成的预测结果与实际生长机理一致,有效提高了工艺过程准确性及产品良率。
技术关键词
原位在线检测装置 外延生长工艺 工艺参数优化方法 晶圆 时序预测模型 数据 参数优化系统 光电 计算机设备 变化趋势预测 统计特征 波长 优化工艺参数 功率半导体器件 制造执行系统 工艺腔 速率 物理 强化学习算法
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