基于深度学习的掩模板缺陷检测方法、系统、设备和介质

本发明涉及计算机视觉与深度学习技术领域，公开一种基于深度学习的掩模板缺陷检测方法、系统、设备和介质，该方法包括：构建包含特征提取网络、双分支缺陷检测头与后处理网络的掩模板缺陷检测模型并进行训练，得到预训练的掩模板缺陷检测模型；将待检测掩模板图像输入预训练的掩模板缺陷检测模型，得到待检测掩模板图像的缺陷检测预测结果。本发明能够有效解决掩模板检测中复杂图案和微小缺陷的检测难题，同时兼顾高分辨率图像的实时处理需求，显著提升半导体制造过程中掩模板缺陷检测的精度与效率。