一种光刻机的高精度温度控制方法及系统

本发明公开了一种光刻机的高精度温度控制方法及系统，属于光刻机温控技术领域，采集掩模版下表面温度阵列、曝光台承载面热流密度分布及气浮层热压差信号，并进行特征编码，构建高维热耦合态势特征矩阵；随后基于该矩阵生成动态热权重关联图谱，将曝光关键节点作为锚点，利用图神经网络对各节点间非线性热路径进行显式建模；进一步依据热权重图谱计算掩模区域单位面积热通量的空间梯度变化率，并映射至曝光台温控阵列，生成非线性控制函数曲面；根据所述控制函数动态调整局部加热单元功率输出与响应延迟参数，该方法可实现纳米级精度的动态热场均衡，有效抑制热漂移，提高光刻成像质量与先进制程的良率。