半導體製程設備及最優阻抗值獲取方法、掃頻匹配方法

本申請公開了一種半導體製程設備及最優阻抗值獲取方法、掃頻匹配方法，屬於半導體製程技術。該掃頻匹配方法包括以下步驟：根據當前待執行的等離子體刻蝕製程，獲取可變阻抗器件的最優阻抗值；將該可變阻抗器件的阻抗固定在該最優阻抗值；開啟射頻電源的掃頻模式，以實現等離子體起輝匹配。本技術方案，其可有效避免射頻電源輸出的信號震盪的問題，提高射頻電源的掃頻匹配成功率，進而提高製程結果的可重複性和穩定性。