材料、架構和用於極紫外線輻射的光刻及其他元件的方法

描述了一種新型材料及其相關元件，這些材料適用於在紫外線（UV）、極紫外線（EUV）和/或軟X射線波長下運行的裝置和系統。該發明涉及提高EUV反射鍍層的弗朗納數。此類材料設計、其架構及其組合可用於製造元件，例如鏡子、透鏡或其他光學元件、面板、光源、光掩模、光刻膠或其他元件，應用於光刻、晶圓圖案化、天文和空間應用、生物醫學應用或其他用途。