功率半导体器件、其制备方法及应用

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功率半导体器件、其制备方法及应用
申请号:CN202410739951
申请日期:2024-06-07
公开号:CN118712219B
公开日期:2025-05-30
类型:发明专利
摘要
一种功率半导体器件及其制备方法。所述功率半导体器件包括半导体层、合金层、门极金属层和门极引出端,所述合金层、门极金属层、门极引出端均设置于所述半导体层的阴极面上,所述合金层设置于所述半导体层与所述门极金属层之间,所述合金层的厚度呈梯度分布。本发明通过在门极金属层与半导体层之间设置合金层,并对合金层的厚度进行设计,可以实现金属‑半导体接触电阻的优化分布,改善器件的开关特性和均流效果,从而提高芯片的开关安全性、控制灵活性和长期可靠性。
技术关键词
功率半导体器件 半导体层 合金 阴极 半导体接触电阻 光刻 金属剥离工艺 梳条 电子设备 离子束 层厚度 激光束 开关 丝网 纳米 芯片 环形
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