一种基于内流场计算的狭缝涂布模头结构设计方法

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一种基于内流场计算的狭缝涂布模头结构设计方法
申请号:CN202410771605
申请日期:2024-06-15
公开号:CN118797984A
公开日期:2024-10-18
类型:发明专利
摘要
本发明涉及计算机数值模拟及涂布领域,具体涉及一种基于内流场计算的狭缝涂布模头结构设计方法。包括:步骤1:输入给定涂布温度下的涂液流变数据;步骤2:生成涂液流变行为的本构模型;步骤3:输入模头的初始几何参数;步骤4:生成模头几何;步骤5:输入网格参数;步骤6:进行内流场计算;步骤7:根据内流场信息计算出口处的宽向均一度;步骤8:若步骤7的宽向均一度达到要求,则计算终止,输出设计出的模头几何参数;否则,调整模头几何参数,返回步骤3。本发明为模头结构的优化设计提供理论参考,为不同应用场景下模头结构的调整指明方向,相比于完全依靠经验和技艺的设计方法,所需的模型样机数量减少,从而提高设计效率、降低研发成本。
技术关键词
狭缝涂布模头 结构设计方法 Cross模型 方程 下模头结构 优化算法设计 模型库 参数 网格 非牛顿流体 速度 指数 速率 数据 软件 应力 压强
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