射频半导体设备和制造射频半导体设备的方法

AITNT
正文
推荐专利
射频半导体设备和制造射频半导体设备的方法
申请号:CN202410785885
申请日期:2024-06-18
公开号:CN119170604A
公开日期:2024-12-20
类型:发明专利
摘要
本公开涉及射频半导体设备和制造射频半导体设备的方法。根据本发明的示例,一种用于处理工作频率范围内的射频RF信号的RF半导体设备包括半导体芯片,该半导体芯片包括第一表面、第二表面、侧壁和有源芯片区域。第一表面和第二表面沿横向方向延伸并且侧壁沿竖直方向延伸。位于有源芯片区域外部的金属层面向半导体芯片的第二表面。金属层的厚度低于对应于工作频率范围的趋肤深度。
技术关键词
半导体设备 半导体芯片 趋肤深度 焊球 四分之一波长 射频 模塑 天线 衬底 盖子 信号 壳体 元件
系统为您推荐了相关专利信息
1
冷却油回转汇聚式功率模块浸没散热结构
功率半导体芯片 液冷散热器 冷却油 汇流板 功率模块
2
一种可减少溢胶量的底部填充胶,其制备方法及应用
底部填充胶 改性环氧树脂 微米级二氧化硅 纳米级二氧化硅 有机硅润湿剂
3
一种半导体芯片LGSS切割设备及切割方法
半导体芯片 支撑平台 切割设备 激光切割器 覆膜机构
4
半导体封装基板的绝缘层形成用的树脂片材
半导体封装基板 树脂片材 树脂组合物层 半导体芯片封装 碳二亚胺
5
一种异质芯片封装方法和结构
芯片封装方法 异质 布线 芯片封装结构 硅片
添加客服微信openai178,进AITNT官方交流群
驱动智慧未来:提供一站式AI转型解决方案
沪ICP备2023015588号