用于材料分析和表征的超表面微型计算光谱仪及其制备

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用于材料分析和表征的超表面微型计算光谱仪及其制备
申请号:CN202410811154
申请日期:2024-06-21
公开号:CN118839255A
公开日期:2024-10-25
类型:发明专利
摘要
本发明公开一种用于材料分析和表征的超表面微型计算光谱仪及其制备,属于光谱编码和测量技术领域。主要制备步骤包括:S1、超表面阵列的设计和制备;S2、超表面和探测器参数标定;S3、光谱重建;S4、利用神经网络对重建的特征光谱进行分析,完成材料参数表征。本申请采用光谱计算重建技术与深度学习技术相结合的方式,提出一种超表面阵列的设计方法,与黑白相机结合进行光谱重建,达到了0.32nm的光谱分辨率;另外,将计算光谱仪与深度学习分类网络算法相结合,能实现特定结构的相关参数表征以及溶液的浓度表征和分类。
技术关键词
光谱仪 电子束光刻技术 超表面结构 CCD相机 探测器 分类网络 白光光源 阵列结构 波长 光强 深度学习分类 纳米压印技术 单色仪 正则化算法 单色光 编码器 参数
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