新型集成电路FOWLP工艺方法

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新型集成电路FOWLP工艺方法
申请号:CN202410814065
申请日期:2024-06-24
公开号:CN118841332A
公开日期:2024-10-25
类型:发明专利
摘要
本发明公开了集成电路技术领域的新型集成电路FOWLP工艺方法,S1、基板准备;S2、RDL层制作;S3、铜导线框架和芯片放置;S4、封装固化;S5、焊垫制备;S6、切割和封装。本发明通过优化RDL层的制作和芯片放置流程,确保了更高的布线精度和芯片对准精度,通过减小封装厚度和增加触点引脚数量,提高了信号传输的效率,减少了信号损失和干扰,采用ChipLast工艺,先进行RDL布线和测试,再放置合格芯片,提高了成品率和封装的长期稳定性,通过简化封装流程和提高材料利用率,降低了整体的封装成本,本发明的工艺方法不仅适用于调频射频芯片,还可以扩展到其他类型的信号芯片,具有广泛的适用性。
技术关键词
新型集成电路 物理气相沉积技术 基板 光刻胶涂覆 铜导线 种子层 集成电路技术 结构封装 焊垫 开孔位置 机械支撑 射频芯片 电镀 框架 调频 信号 布线
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