平面分光无源光芯片的制备方法

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平面分光无源光芯片的制备方法
申请号:CN202410822863
申请日期:2024-06-24
公开号:CN118688902A
公开日期:2024-09-24
类型:发明专利
摘要
本申请实施例提供了一种平面分光无源光芯片的制备方法,包括制作旋转光束,并通过所述旋转光束对硅基螺旋切割改性,经氢氟酸溶液腐蚀以形成光纤阵列排;在所述硅基上沉积金属层;制作光学器件,并将所述光学器件连接至所述金属层;将光纤连接至所述光纤阵列排的一端,将所述光学器件连接至所述光纤阵列排的另一端。本申请实施例提供的制备方法通过引入旋转光束切割硅基技术,简化了硅基切割和改性的步骤,也提高了切割质量和切割效率,同时优化了金属层沉积和光学器件连接等工艺,从而降低了制备难度与制备成本,还提高了生产效率,使得光芯片的制备更加高效、经济。
技术关键词
光纤阵列 制作光学器件 光束 氢氟酸 空心轴电机 光波导 改性 楔形棱镜 磁场辅助 螺旋 光芯片 层沉积 磁流体 调制器 溶液 保温 物镜
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