用于半导体样本的检查的计量算法的优化

提供了一种计量系统和方法。所述方法包括：获得从表征检查工具的多个工具参数中选择的工具参数集；多次改变来自所述集的每个工具参数的值，从而产生与所述工具参数集的变化值的多个组合相对应的多个工具设置；用所述多个工具设置中的每个给定工具设置来配置所述检查工具；以及响应于从所述检查工具接收与所述多个工具设置相对应并表示在单个工具中或在不同工具之间随时间推移的预期工具变化的多个图像集，使用所述多个图像集来优化计量算法，以满足包括工具匹配度的至少一个计量度量。