一种双向TVS芯片及其制备方法

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一种双向TVS芯片及其制备方法
申请号:CN202410851948
申请日期:2024-06-28
公开号:CN118412276B
公开日期:2024-09-06
类型:发明专利
摘要
本发明公开了一种双向TVS芯片及其制备方法,涉及半导体器件技术领域,该制备方法包括:提供一P型衬底;对P型衬底的其中一个表面进行金属离子注入,形成离子层;按照离子层的外缘对P型衬底进行蚀刻,形成位于P型衬底表面的隔离槽,并且在隔离槽内填充绝缘材料以形成第一绝缘层;以离子层为阻挡层,对P型衬底进行磷元素注入,形成位于离子层之上的第一N型扩散层,以及位于P型衬底外侧区域的第二N型扩散层;在P型衬底的表面,沉积与第一绝缘层接触的第二绝缘层,且第二绝缘层的两端分别抵靠至第一N型扩散层与第二N型扩散层。本发明旨在提供双向防护、单向绝缘的TVS芯片,从而降低TVS芯片的失效率。
技术关键词
P型衬底 扩散层 离子 绝缘材料 金属电极 芯片 半导体器件技术 微结构 掩膜 蚀刻 PN结 阻挡层 元素 轮廓 形态
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