基于高光谱技术的中药二氧化硫残留量预测模型构建方法

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基于高光谱技术的中药二氧化硫残留量预测模型构建方法
申请号:CN202510629536
申请日期:2025-05-16
公开号:CN120673911A
公开日期:2025-09-19
类型:发明专利
摘要
本发明以不同产地、不同批次的中药材样品,使用ASD高光谱技术,采集中药材高光谱信息,建立二氧化硫残留量的最优预测模型。采用本发明所构建的最优预测模型能够快速检测所建立模型对应中药中的二氧化硫残留量,进而评价中药的质量,该方法已经成功应用于中药天麻二氧化硫残留量的快速检测中,与传统药典酸碱滴定法、气相色谱及离子色谱检测法等现有检测方法相比,具有高效,安全,环保,高通量,设备简单,花费少等优点。
技术关键词
二氧化硫残留量 预测模型构建方法 高光谱技术 连续投影算法 定量分析模型 组合算法 样本 定量预测模型 中药材样品 酸碱滴定法 快速检测仪 中药天麻 可见光波段 离子色谱 误差 分辨率 变量 矫正
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