基于弱相干干涉光谱成像系统的光学元件缺陷检测方法

本发明公开了一种基于弱相干干涉光谱成像系统的光学元件缺陷检测方法，按照以下步骤进行：S1、使用弱相干干涉光谱成像装置采集光学元件的原始干涉光谱信号；S2、得到空间强度结构图像；S3、根据空间强度结构图像，得到强度结构投影图像；S4、得到缺陷纹理特征；S5、得到光谱曲线；S6、结合步骤S4中得到的缺陷纹理特征和步骤S5中得到的光谱曲线，对不同类型缺陷进行区分。采用本发明公开的基于弱相干干涉光谱成像系统的光学元件缺陷检测方法，突破了现有暗场和明场图像检测区分损伤坑缺陷的局限性，实现了光学元件缺陷分类，能够有效区分小尺度损伤坑及表面污染颗粒，从而实现高灵敏度检测，避免出现漏修复与错修复的问题。