基于双扩散模型的掩模优化方法、系统、设备与存储介质

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正文
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基于双扩散模型的掩模优化方法、系统、设备与存储介质
申请号:CN202410955994
申请日期:2024-07-17
公开号:CN118520777B
公开日期:2024-10-29
类型:发明专利
摘要
本发明公开了一种基于双扩散模型的掩模优化方法、系统、设备与存储介质,它们是一一对应的方案,方案中:使用基于双扩散模型的生成模型解决掩模优化问题,利用扩散模型的训练稳定性和扩散模型良好的生成效果,可以杜绝基于生成式对抗网络模型面临的模式坍塌,和训练不稳定的问题,从而保证掩模优化效果,更具体的说,本发明在训练时引入一个光刻引导的损失函数,使得模型不仅能学习掩模风格,还能把握住潜在的物理约束,能够极大地提升掩模生成的整体质量,去噪采样过程中,使用低通滤波器,用于引导采样过程,可以有效地保留关键的位置信息,这对于准确的掩模表示是至关重要的。
技术关键词
版图 掩模优化方法 噪声 光刻 生成式对抗网络模型 低通滤波器 图片生成单元 数据 仿真器 掩膜 参数 变量 处理器 数学 可读存储介质 符号 程序 风格
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