摘要
本发明公开了一种基于双扩散模型的掩模优化方法、系统、设备与存储介质,它们是一一对应的方案,方案中:使用基于双扩散模型的生成模型解决掩模优化问题,利用扩散模型的训练稳定性和扩散模型良好的生成效果,可以杜绝基于生成式对抗网络模型面临的模式坍塌,和训练不稳定的问题,从而保证掩模优化效果,更具体的说,本发明在训练时引入一个光刻引导的损失函数,使得模型不仅能学习掩模风格,还能把握住潜在的物理约束,能够极大地提升掩模生成的整体质量,去噪采样过程中,使用低通滤波器,用于引导采样过程,可以有效地保留关键的位置信息,这对于准确的掩模表示是至关重要的。
技术关键词
版图
掩模优化方法
噪声
光刻
生成式对抗网络模型
低通滤波器
图片生成单元
数据
仿真器
掩膜
参数
变量
处理器
数学
可读存储介质
符号
程序
风格
系统为您推荐了相关专利信息
搜索排序方法
协同过滤算法
低频标签
噪声标签
排序系统
姿态监测方法
格网模型
三维姿态信息
点云数据处理
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信号源
天线阵列
重构矩阵
MUSIC算法
种子漂浮育苗
智能检测系统
幼苗
育苗盘
图像处理算法
融合定位系统
激光测距装置
铁水
融合定位方法
编码器光栅