一种加工约束下的曲面光顺算法

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一种加工约束下的曲面光顺算法
申请号:CN202410967174
申请日期:2024-07-18
公开号:CN119045415A
公开日期:2024-11-29
类型:发明专利
摘要
本发明公开了一种加工约束下的曲面光顺算法,包括根据加工方向,在给定的加工曲面上等参数选取截面线,计算截面线的控制点作为初始值;根据截面线的弧长,基于进给率的定义,将截面线的表达形式转化为基于加工时间参数的表达形式;根据基于加工时间参数的表达形式的截面线,构建基于加加速度的能量函数作为优化目标,并基于优化目标和加工容差,构建面向加工的曲面光顺优化问题;基于曲面光顺优化问题,使用优化算法对截面线进行优化,得到新截面线及其线控制点;根据所有新截面线及其线控制点,使用蒙皮算法反求曲面的控制顶点,得到光顺后的加工曲面。能够降低加工阶段由于轨迹加速度的频繁变化而导致的机床震动,导致加工表面质量降低的问题。
技术关键词
控制点 序列二次规划算法 曲面 加速度 参数 曲线 定义 样条 蒙皮 机床 变量 轨迹 坐标 阶段
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