一种MOS器件制造方法

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一种MOS器件制造方法
申请号:CN202410983727
申请日期:2024-07-22
公开号:CN119028838A
公开日期:2024-11-26
类型:发明专利
摘要
本发明属于MOS器件制造技术领域,具体的说是一种MOS器件制造方法,包括以下步骤:首先需要制造一个硅晶片;然后需要在其表面制造一层绝缘材料;最后将芯片和绝缘层封装在一个金属外壳中;为解决存在气泡或空洞导致封装材料与晶片之间的粘合不良的问题,通过电脑程序控制第二电机,通过第二电机带动检测探头运动;检测完成后驱动翻料辊带动封装工件翻面;若该检测探头检测结果合格,翻面后,需要通过电脑程序控制,另一个检测探头对封装工件翻面进行检测;若该检测探头检测结果不合格,翻面后,需要通过电脑程序控制,另一个检测探头不会开启,最终封装工件输送至剔除机构,任何一个检测结果不合格,均进行剔除,实现了对封装工件的检测。
技术关键词
MOS器件 检测探头 剔除机构 上料机构 金属外壳 往复丝杆 电子束光刻技术 收集箱 薄膜沉积工艺 机架 摆盘 转轮 硅晶片 安装板 机械手 检测机构 芯片 固定架 工件 绝缘材料
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