一种可提高光提取效率的LED芯片及其制备方法

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一种可提高光提取效率的LED芯片及其制备方法
申请号:CN202410988533
申请日期:2024-07-23
公开号:CN118738238B
公开日期:2025-10-17
类型:发明专利
摘要
本发明属于LED芯片技术领域,具体涉及一种可提高光提取效率的LED芯片及其制备方法,制备方法包括下列步骤:制备外延片结构;制备n型半导体台面;在n型半导体层上制备n型金属电极,在p型半导体层上制备p型金属电极;n型金属电极在氮气氛围下,进行高温退火形成n型欧姆接触;制备透光层;在透光层上制备导电通孔。本发明通过控制n型金属电极厚度和透光层厚度,首先通过减薄n型金属电极,然后在n型金属电极上方与量子阱外侧相对应区域制备透光层,避免金属电极对光的吸收,提高光线透过,大大提高侧壁出光,进一步提高了光提取效率。
技术关键词
n型金属电极 光提取效率 量子阱层 透光 AlN缓冲层 p型半导体层 蓝宝石衬底 半导体台面 外延片结构 LED芯片技术 刻蚀气体 光刻胶 气相沉积设备 侧壁出光 导电 功率 通孔
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