一种发光二极管外延片及其制备方法、发光二极管

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一种发光二极管外延片及其制备方法、发光二极管
申请号:CN202410997528
申请日期:2024-07-24
公开号:CN118782703B
公开日期:2025-09-12
类型:发明专利
摘要
本发明公开了一种发光二极管外延片及其制备方法、发光二极管,涉及半导体技术领域,该发光二极管外延片包括衬底,还包括:依次层叠于所述衬底之上的AlN层、缓冲层、三维GaN层、未掺杂GaN层、N型半导体层、应力释放层、多量子阱层、电子阻挡层、P型半导体层;在所述应力释放层与所述多量子阱层之间插入复合插入层,所述复合插入层包括周期性交替层叠设置的AlxGa(1‑x)N层、InyGa(1‑y)N层以及P型掺杂GaN层,其中,x的取值范围为0‑1,y的取值范围为0‑1,本发明能够解决现有技术中传统的LED芯片在热态下发光效率低下的技术问题。
技术关键词
发光二极管外延片 GaN层 多量子阱层 应力释放层 电子阻挡层 半导体层 层叠 周期性 衬底 缓冲层 掺杂剂 压力 芯片
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