基于Nb2C-氧化锌忆阻器的人工突触器件及其制备方法

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基于Nb2C-氧化锌忆阻器的人工突触器件及其制备方法
申请号:CN202411003103
申请日期:2024-07-25
公开号:CN118555906B
公开日期:2024-11-19
类型:发明专利
摘要
本发明公开基于Nb2C‑氧化锌忆阻器的人工突触器件及其制备方法,属于忆阻器领域;人工突触器件由下至上依次包括:衬底层、底电极层、阻变功能层以及顶电极层;阻变功能层为二维Nb2C层与氧化锌层构成的异质结构,阻变功能层是通过采用旋涂或喷涂工艺将二维Nb2C层覆盖在氧化锌层上制备而成;引入二维层状Nb2C与氧化锌构成异质结构,作为忆阻器的阻变功能层,利用二维层状Nb2C特有的结构特性,引导导电细丝的形成,使得忆阻器具有更加优秀的电学性能,更低的工作电压和更低的能耗以及更好的稳定性和耐久性。
技术关键词
突触器件 氧化锌 直流磁控溅射法 喷涂工艺 阻变功能层 电极 异质结构 二甲基亚砜 图像识别系统 衬底层 溶液 电子束 层图案 忆阻器 掩膜 氮化镓 射频 碳化硅 粉末
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