基于双层仿射框架的共享图像抠图方法

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正文
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基于双层仿射框架的共享图像抠图方法
申请号:CN202411004185
申请日期:2024-07-25
公开号:CN119006511A
公开日期:2024-11-22
类型:发明专利
摘要
本发明公开了一种基于双层仿射框架的共享图像抠图方法。共享先验步骤充分利用共享抠像在速度和采样准确性上的优势,对每个未知像素点进行单独采样,并从中选择较好的样本对作为未知像素的前景和背景样本点,计算出未知像素的初始先验α值。充分利用KNN方法搜索样本范围宽和颜色线性模型可以更好的细节保留的优势,采用了一种双层仿射类框架对初始α进行后处理。双层抠图方法算法不仅增强了α的视觉效果,也提高了α结果的准确性。本算法无论在定性观察还是定量比较的层面,其抠图结果都有较大程度的提高,有助于供高后续虚拟合成图像的准确性。
技术关键词
抠图方法 共享图像 框架 颜色 线性 样本 融合策略 矩阵 算法 像素点 误差 射线 方程 速度
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