摘要
本发明涉及光通信领域,尤其涉及一种掩埋、对接结构的半导体激光器芯片及其制备方法,其制备的半导体激光器芯片采用了选择性外延及异质结掩埋工艺,通过选择性生长了含铝(Al)元素的有源区,同时采用异质结掩埋工艺实现短腔长和窄面积的有源区的结构设计,实现更低阈值电流、更低寄生电容及结电容和更优的可靠性性能,并具有更高的调制频率及响应带宽宽度;此外,本发明采用了先生长无源波导层,再选择性生长含Al元素的有源层的工艺,形成了有源区无源波导对接结构和异质结掩埋结构,实现了含Al有源区围合结构设计,避免芯片在制备中,使用的Al元素有源层暴露在大气中,解决了含Al材料的有源层易被氧化的问题,有效提高了器件的可靠性。
技术关键词
半导体激光器芯片
外延
波导
InGaAs材料
MOCVD机台
欧姆接触层
硬掩膜
异质结
掩埋结构
有源区
衬底
缓冲层
光学薄膜
高阻值
层暴露
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