一种掩埋、对接结构的半导体激光器芯片及其制备方法

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一种掩埋、对接结构的半导体激光器芯片及其制备方法
申请号:CN202411007278
申请日期:2024-07-25
公开号:CN118970622A
公开日期:2024-11-15
类型:发明专利
摘要
本发明涉及光通信领域,尤其涉及一种掩埋、对接结构的半导体激光器芯片及其制备方法,其制备的半导体激光器芯片采用了选择性外延及异质结掩埋工艺,通过选择性生长了含铝(Al)元素的有源区,同时采用异质结掩埋工艺实现短腔长和窄面积的有源区的结构设计,实现更低阈值电流、更低寄生电容及结电容和更优的可靠性性能,并具有更高的调制频率及响应带宽宽度;此外,本发明采用了先生长无源波导层,再选择性生长含Al元素的有源层的工艺,形成了有源区无源波导对接结构和异质结掩埋结构,实现了含Al有源区围合结构设计,避免芯片在制备中,使用的Al元素有源层暴露在大气中,解决了含Al材料的有源层易被氧化的问题,有效提高了器件的可靠性。
技术关键词
半导体激光器芯片 外延 波导 InGaAs材料 MOCVD机台 欧姆接触层 硬掩膜 异质结 掩埋结构 有源区 衬底 缓冲层 光学薄膜 高阻值 层暴露 间隔层 光栅 元素 光通信 包覆层
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